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科特莱思科 PRO Line PVD 200物理气相沉积系统
PRO Line PVD 200在原设计的基础上改进了基础压力和泵送速度。技术先进的腔体设计、业内领先的软件控制系统（具备先进编程能力）、自动基底加载以及多种优化薄膜性能的功能，是这一创新且一流的设计所带来的一些关键优势。
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科特莱思科 LAB Line物理气相沉积系统
LAB Line物理气相沉积系统专为磁控管溅射沉积设计。该创新设计的优势包括专为超高真空溅射工艺需求量身定制的腔体设计、业内最佳软件控制系统、具备*编程功能、负载锁定功能以及多种优化薄膜性能的功能。
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科特莱思科 NANO 36™物理气相沉积系统
NANO 36™物理气相沉积系统是我们优化的入门级沉积系统。我们的腔室设计特别适合手套箱集成。NANO 36™物理气相沉积系统具有更高的功能和更小的占地面积，提供了实惠的价格点，同时保持了您期望从 KJLC 获得的质量。
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科特莱思科 CMS Series物理气相沉积系统
CMS Series物理气相沉积系统极其*的优良研究工具设计用于适应特定的薄膜应用，如 GMR、CMS、半导体、纳米级器件、光子学和光伏。CMS Series物理气相沉积系统经过现场测试和验证的设计系统设计可以配置为真正的超高真空性能。
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科特莱思科 Mini SPECTROS物理气相沉积系统
Mini SPECTROS物理气相沉积系统是基于主力SPECTROS平台的下一代薄膜沉积系统。SPECTROS平台在全球服役超过100台，是一款经过验证、坚固且多功能的设计。
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eVictor PVD Al 金属铝薄膜物理气相沉积系统
eVictor PVD Al 金属铝薄膜物理气相沉积系统eVictor PVD Al SystemeVictor PVD Al设备是一款应用于12英寸集成电路领域的高端PVD设备，系统集成了高温去气、等离子体预清洗
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eVictor PVD Al 金属铝薄膜物理气相沉积系统
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eVictor PVD Al 金属铝薄膜物理气相沉积系统
eVictor PVD Al 金属铝薄膜物理气相沉积系统eVictor PVD Al SystemeVictor PVD Al设备是一款应用于12英寸集成电路领域的高端PVD设备，系统集成了高温去气、等离子体预清洗
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iMLayer基质蒸镀系统（气相沉积）
专为MALDI-MS成像分析设计的气相沉积样品前处理系统。采用真空蒸镀技术，可自动化形成精细且重现性优异的基质结晶层，助力实现高空间分辨率成像。
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科特莱思科 PRO Line PVD 75 物理沉积系统
PRO Line PVD 75是基于主力PVD 75平台的下一代薄膜沉积系统。PVD 75在全球服役超过400台，是一款经过验证、坚固且多功能的设计。PRO Line PVD 75在原设计的基础上改进了基础压力和泵送速度。技术先进的腔体设计、业内领先的软件控制系统（具备先进编程能力）、自动基底加载以
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